光刻機(jī)（Mask Aligner) 又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是芯片制造的核心裝備。其工作方式是通過(guò)光的作用，將掩模版上的電路圖形投影到產(chǎn)品表面光刻膠上，然后顯影出圖形，最后經(jīng)過(guò)蝕刻、離子植入等制程定型形成有效的電路。
三類(lèi)光刻機(jī)的對(duì)比
LED生產(chǎn)用接近式光刻機(jī)工藝流程
全自動(dòng)Mask Aligner光刻機(jī)設(shè)備
適用于半導(dǎo)體、LED、Mini/Micro LED、5G通訊、新型光學(xué)器件、MEMS、PCB、化合物半導(dǎo)體、光伏、功率器件等行業(yè)。
● 三高：高分辨率、高精度套刻、高產(chǎn)能，全自動(dòng)雙工位運(yùn)行；
● 高效的自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)，客制化操作界面及功能；
● 實(shí)時(shí)光強(qiáng)監(jiān)控，電機(jī)驅(qū)動(dòng)式光源調(diào)節(jié)系統(tǒng)；
● 模塊化設(shè)計(jì)，定制化生產(chǎn)，可選高壓汞燈/UVLED、自動(dòng)/手動(dòng)、單工位/雙工位、雙面曝光、卷對(duì)卷曝光等。
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大族半導(dǎo)體將依托現(xiàn)有的技術(shù)積累，持續(xù)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行提升和優(yōu)化，提升光刻設(shè)備的品質(zhì)和性能，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)的優(yōu)化升級(jí)，為提升國(guó)產(chǎn)裝備市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力添磚加瓦。
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